Los estados comunes de las placas de aluminio 6061 incluyen el estado O, el estado T4, el estado T6 y el estado T651. La aleación en estado T651 se forma estirando según el estado T6 y eliminando la tensión interna, lo que la hace más adecuada para el procesamiento y la conformación.
La diferencia entre los dos estados de la placa de aluminio 6061 T6 y T651:
La diferencia entre T6 y T651 es que, en circunstancias normales, la tensión interna de T6 será relativamente grande y se deformará durante el procesamiento. El estado más adecuado para el procesamiento debería ser T651.
6061-Estado T6: enfriado después del tratamiento térmico con solución sólida para lograr una alta resistencia, no se realiza trabajo en frío;
6061-Estado T651: enfriado después del tratamiento térmico con solución sólida para lograr una alta resistencia, y luego estirado en frío mediante una máquina de estiramiento para eliminar la tensión interna residual después del tratamiento térmico, de modo que no se deforme después del procesamiento profundo para garantizar la precisión de productos mecanizados.
Dado que 6061-T651 es un producto de aleación de aluminio de alta calidad producido mediante tratamiento térmico y proceso de preestirado, aunque su resistencia no se puede comparar con la serie 2XXX o la serie 7XXX, tiene muchas propiedades de las aleaciones de magnesio y silicio, buen procesamiento. Rendimiento y excelentes características de soldadura. Y propiedades de galvanoplastia, buena resistencia a la corrosión, alta tenacidad y sin deformación después del procesamiento, el material es denso y libre de defectos y fácil de pulir, película de color fácil de aplicar, buen efecto de oxidación y otras características excelentes.
Los usos representativos de 6061-T651 incluyen accesorios aeroespaciales, accesorios eléctricos y campos de comunicaciones. También se usa ampliamente en piezas mecánicas automatizadas, mecanizado de precisión, fabricación de moldes, instrumentos electrónicos y de precisión, SMT, soportes de soldadura de placas de PC, etc.
